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核心提示：
推出PlasmaPro 100系統(tǒng)，為客戶提供了新一代性能超群的刻蝕和沉積設(shè)備。該系統(tǒng)包括微電機(jī)系統(tǒng)、HBLED、半導(dǎo)體電子、失效分析及光伏等很多非常符合市場需求的關(guān)鍵應(yīng)用。客戶不僅需要技術(shù)創(chuàng)新，同時(shí)更需要一流的技術(shù)支持，牛津儀器開發(fā)的這套先進(jìn)的系統(tǒng)完全符合客戶的需求。
牛津儀器作為世界領(lǐng)先的等離子刻蝕和沉積系統(tǒng)供應(yīng)商，不斷致力于改善和開發(fā)該系統(tǒng)，以便為客戶提供提供最好的設(shè)備。
新系統(tǒng)的作用：
• 伴隨高品質(zhì)的二氧化硅和氮化硅沉積速率，PECVD硬件進(jìn)一步演變，相應(yīng)的減少清機(jī)時(shí)間成本。
• 新一代Cobra ICP系統(tǒng)改善了刻蝕率和線寬操控功能。
• 具有業(yè)界公認(rèn)的機(jī)械手功能，鞏固了牛津儀器在“即插即用”的硬件和優(yōu)化程序方面的領(lǐng)先地位。
• 增強(qiáng)了控制系統(tǒng)的基礎(chǔ)設(shè)施，具有更好的分析、可靠性和可維護(hù)性。
PlasmaPro 100是一個(gè)高配置的系統(tǒng)，既可以作為獨(dú)立腔體模塊，也可以多腔配置。
“正常運(yùn)行時(shí)間超過90%，這個(gè)數(shù)據(jù)證明了我們?cè)O(shè)備的技術(shù)和自動(dòng)化在業(yè)內(nèi)處于領(lǐng)先地位，”高級(jí)產(chǎn)品經(jīng)理Ian McKinlay談到，“此新產(chǎn)品做到真正的改進(jìn)，具有良好的均勻性，并在應(yīng)用范圍內(nèi)提供高產(chǎn)能程序。我們獨(dú)家擁有6000多個(gè)工藝參數(shù)。憑借此項(xiàng)優(yōu)勢，25年來牛津儀器在業(yè)界一直處于領(lǐng)先地位，同時(shí)也確保了我們能將優(yōu)異的產(chǎn)品提供給客戶。”
PlasmaPro 100系統(tǒng)
